实验胶体磨，方便灵活

 实验胶体磨，小型胶体磨，实验室用胶体磨，研发用胶体磨，IKNPP2000/4是一款专为实验室设计的胶体磨，最小处理量为50ML可以循环。实验室管线式胶体磨不同于批次式的设备，批次式设备是直接插入到容器（烧杯），运行的，处理量可以放到几毫升甚至更低。管线式胶体磨，物料一进一出，所以很难处理到很少量。


                               

实验胶体磨PP2000/4相对于其他厂家的胶体磨而言，有着自己的许多优势：

一、转速

IKN实验室胶体磨转速可达14000rpm，国产胶体磨可能达到3000rpm，这些是由设备的结构和机械密封的决定的。国产胶体磨一般采用直连结构，电机和胶体磨主轴通过联轴器连接，电机的转速就决定了胶体磨的转速。而IKN胶体磨采用分体式结构，通过皮带轮变速，最高转速可达14000rpm。

二、磨头结构

IKN胶体磨磨头结构：沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下，而他们的斜齿的每个磨头的沟槽深度一样，流道体积是一样大，这样形成了本质的区别。我们可以保证物料从上往下一直在进行研磨，而他们只能在一级磨头到另外一级磨头形成研磨效果。

              

三、线性放大

专为实验室研发，模拟生产流程，为量产提供可靠的数据论证。该中试型型机器和大型量产机型配置相同，且分散头的种类及相应线速度也相同，中试过程中的工艺参数在量产化之后不要重新调整，而将机器型号升级过程中的风险降到最低。

PP2000/4实验胶体磨配有博格曼双机械密封，以及密封液压系统，因此虽然一款中试设备，但同样具有生产的可靠性。IKN密封件为双端面集装式密封，耐压性好，超高转速下拥有优异的密封表现。配有压力平衡罐，充入适当压力可保证机封上下端面受力平衡，同时运转时可通过自身偏心 结构的带来的泵环效应和热虹吸效应实现冷却水的自动循环。该循环系统为独立系统，与外界无接触，平衡罐内冷却液可选纯化水或合适的溶剂，有效避免普通冷却 自来水压力不稳和含有少量颗粒杂质对机封带来的损坏。

专为实验及中试型机器配备的变频控制柜，不仅可以设定不同功能模块，显示温度，控制转速，还可以显示与功能模块相匹配的各项参数，可供量产作数据记录

PP2000/4为立式分体式结构，运行时间长，不易造成轴的偏心，容易更换，而且只要更换相应的皮带，一般的人员可以操作。立式分体结构，通过皮带传动，并实现加速，加速比为3：1，即正常50HZ频率下转速为7890RPM,外加变频可达13789RPM。。PP2000/4转子的直径为55mm(转速相较其它厂家2900转左右高出约三倍).

PP2000/4实验胶体磨具有非常高的剪切速度和剪切力，粒径约为0.2-2微米可以确保高速分散乳化的稳定性。该设备可以适用于各种分散乳化工艺，也可用于生产包括对乳状液,悬浮液和胶体的均质混合。高剪切分散乳化机由定/转子系统生的剪切力使得溶质转移速度增加，从而使单一分子和宏观分子媒介的分解加速。

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