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安达铝镁加混悬液胶体磨

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品牌: IKN
商品型号: CM2000
产品规格: CM2000
单价: 面议
起订: 1
供货总量: 100
发货期限: 自买家付款之日起 2 天内发货
所在地: 上海
有效期至: 长期有效
最后更新: 2017-01-01 04:08
浏览次数: 657
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公司基本资料信息






 
 
产品详细说明

安达铝镁加混悬液胶体磨,混悬液胶体磨,口服混悬液胶体磨,外用混悬液胶体磨,注射混悬液胶体磨,阿苯达唑混悬液胶体磨,布地奈德混悬液胶体磨,布洛芬混悬液胶体磨,蒙脱石混悬液胶体磨,多潘立酮混悬液胶体磨,磺胺二甲嘧啶混悬液胶体磨

安达铝镁加悬浮液是一种中和胃酸药,用于治疗胃及十二指肠溃疡或胃酸过多引起的反酸、烧心、
疼痛、腹胀、嗳气等症状,是一种白色粘稠混合液。对于混悬液药剂的制备国家有严格的规定:药物本身的化学性质应稳定,在使用或贮存期间含量应符合要求;混悬剂中微粒大小根据用途不同而有不同要求;粒子的沉降速度应很慢、沉降后不应有结块现象,轻摇后应迅速均匀分散;混悬剂应有一定的粘度要求;外用混悬剂应容易涂布等。

增加混悬液的动力稳定性的主要方法是:
尽量减小微粒半径,以减小沉降速度
增加分散介质的粘度,以减小固体微粒与分散介质间的密度差,这就要向混悬液中加入高分子助悬液,在增加介质粘度的同时,也减小了微粒与分散介质之间的密度差,同时微粒吸附助悬液分子而增加亲水性。混悬液中的微粒大小是不均匀的,大的微粒总是迅速沉降,细小微粒沉降速度很慢,细小微粒由于布朗运动,可长时间悬浮在介质中,使混悬液长时间地保持混悬状态。制备混悬液时,应使混悬微粒有适当的分散度,粒度均匀,以减小微粒的沉降速度,使混悬液处于稳定状态。安达铝镁加混悬液胶体磨安达铝镁加混悬液胶体磨传统的混悬液生产都是采用普通胶体磨,转速只有3000rpm,生产出来的悬浮液颗粒较粗,静置一段时间容易产生絮凝,影响药效和使用,为此有医药厂家在考察了国内的设备之后,放弃了具有极度价格优势的国内设备,来询问低能耗、高转速、极精密定转子、研磨细的上海IKN高速胶体磨。该设备转速达到14000RPM,这可以通过变频调速通过皮带加速来实现。(转速是普通分散设备3-4倍,研磨的力度也是普通胶体磨的3-4倍,这样研磨的细度更小,效果更好)

混悬液胶体磨CM2000系列的特点:
①定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。
齿列的深度:从开始的2.7mm 到末端的0.7mm,范围比较大,范围越大,处理的物料颗粒大小越广。
③沟槽的结构式斜齿,每个磨头的沟槽深度不一样,并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。安达铝镁加混悬液胶体磨
一、转速和剪切速率:


IKN胶体磨,可选择德国机械密封,转速可以达到15000


F=23/0.7X1000=32857S-1


F=40/0.7/X1000=57142S-1


国内胶体磨,可选择机械密封一般3000转,大约在14293-215440S-1


通过转速比较可知,这是乳粉碎研磨的重要因素,相当于前者是后者的2-3倍。


二、胶体磨头和间距:


IKN胶体磨,可以选择六种不同的模块头,实现多种功能,如三级乳化模块,超高速模块,CM胶体模块,CMO胶体模块,批次粉液液混合模块,连续粉液混合模块,间距可调,可实现1-10微米小粒径材料加工。


国内胶体磨,只有一种模块头,粒径细度有限,100微米以下较困难,重复性差。


三、机械密封:


IKN胶体磨,双机械密封,易于清洗,将泄漏降至最低,可24小时不停运转。


国内胶体磨,单机械密封或轴封,泄漏故障率高,产品泄漏进入马达,造成马达烧毁。


四、清洗:


IKN胶体磨,立式,皮带驱动,易于维护,可有效保护马达及齿轮箱,防止损坏,符合流体流动原理,具有CIP/SIP在线清洗,在线杀菌功能,无需拆卸,机器设计无死角,立式结构符合流体原理,清洗更简便。


国内胶体磨,卧式或立式(马达一体式),轴承部分受力较大,易于损坏,维护保养复杂,通常情况,需要拆卸机器进行清洗。

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